cooling water system

خونه >

cooling water system تولید کننده آنلاین

تمام محصولات

کوره سینک HIP

(142)

کوره فشار گاز

(62)

کوره مخزن خلاء

(75)

کوره مخزن MIM

(49)

کوره سنگ زنی فلزی

(39)

کوره صنعتی وکیوم

(39)

کوره وکیوم با دمای بالا

(37)

کوره عملیات حرارتی وکیوم

(41)

کوره پخت و پز سرامیک

(25)

کوره خلاء بالا

(21)

Sintering Furnace Accessoriesfunction gtElInit() {var lib = new google.translate.TranslateService();

(5)

کوره سیلیکون کاربید

(21)

دستگاه پوشش CVD

(33)

با ما تماس بگیرید

86--16673365810

shirley.xiao@zzrde.com

86-0731-22506328-22506328

حالا تماس بگیرید

cooling water system (283) تولید کننده آنلاین

زینترینگ خلاء کنترل دقیق دما با ترموکوپل کامپوزیت کربنی مقاوم در برابر درجه حرارت بالا نوع K

عنصر گرمایش: گرافیت، مولیبدن

سیستم کنترل دما: کنترل خودکار PID

بهترین قیمت رو بدست بیار

کوره خلاac با دمای بالا کنترل 320KVA زیمنس PLC

ساختار: اتاق مجرد ، نوع افقی

بعد، ابعاد، اندازه: سفارشی

بهترین قیمت رو بدست بیار

کوره پخت خلاac با درجه حرارت بالا با عملکرد تخریب هوا

ساختار: اتاق مجرد ، نوع افقی

بعد، ابعاد، اندازه: 500 * 500 * 1800

بهترین قیمت رو بدست بیار

کوره پوشش MT-CVD HT-CVD با کیفیت پوشش عالی و راکتور سفارشی

دمای پوشش: 200 تا 1050 درجه سانتیگراد

سیستم خنک کننده: 2 مجموعه از تله های کندسانس با آب سرد با عملکرد بالا

بهترین قیمت رو بدست بیار

کوره آلومینیزاسیون بخار شیمیایی 900-1050C با Hf Zr و Si Codeposition

Temp.of deposition((℃): 900-1050

Process pressure(mbar): 100-300

بهترین قیمت رو بدست بیار

کوره CVD با پوشش TiC/TiN/TiCN/Al2O3 با دمای فرآیند 700-1050C

دمای فرآیند ((℃): 700-1050

انواع پوشش: TiC، TiN، TiCN، a-AL2O3، K-AI2O3

بهترین قیمت رو بدست بیار

کوره خلاء آزمایشگاهی سفارشی Cvd کوره پوشش Cvd تپ شدن بخار شیمیایی

دمای فرآیند ((℃): 700-1050

انواع پوشش: TiC، TiN، TiCN، a-AL2O3، K-AI2O3

بهترین قیمت رو بدست بیار

کوره پیشرفته CVD/CVI برای چسباندن بخار TiC TiN TiCN a-AL2O3 و K-AI2O3 در دمای فرآیند 700-1050C

دمای فرآیند ((℃): 700-1050

انواع پوشش: TiC، TiN، TiCN، a-AL2O3، K-AI2O3

بهترین قیمت رو بدست بیار

کوره پوشش رسوب بخار شیمیایی با پیشگامان TiCL4،AICL3 و گاز های فرآیند

دمای فرآیند ((℃): 700-1050

پیش سازها و گازهای فرآیندی: TiCL4، AICL3، CH3CN، H2، N2، Ar، CH، CO، CO2، HCI، H2S

بهترین قیمت رو بدست بیار

فابریکهای چینی گواهینامه ایزو سی ای کوره بدون فشار خلاء با حداکثر دمای کار 2500 درجه سانتیگراد

حداکثر دمای کار: 2500 ℃

یکنواختی دما: ≤±5℃

بهترین قیمت رو بدست بیار

ویدیو

1500C CVD SIC کوره رشد epitaxy برای رشد کربید سیلیکون در 1000 * 1000 * 1500mm فضای موثر

فضای موثر (میلی متر): 1000*1000*1500

قدرت گرمایش (KVA): 300

بهترین قیمت رو بدست بیار

ویدیو

فرنه سینتر کردن کاربید سیلیکون 1800C با دقت ≤±5C

حداکثر دمای کار: 1800 ℃

یکنواختی دما: ≤±5℃

بهترین قیمت رو بدست بیار

ویدیو

تولید کننده کوره سینتر کردن فشار گاز با کنترل درجه حرارت بالا برای کربید/نیترید سیلیکون

جزئیات بسته بندی: جعبه های چوبی

زمان تحویل: 4 تا 5 ماه

بهترین قیمت رو بدست بیار

کوره کاربید سیلیکون اتوماسیون بالا ، کوره صنعتی خلاء قدرت گرمایش 320 KVA

نام: کوره با خلاء بالا

حداکثر دما: 1800 ℃

بهترین قیمت رو بدست بیار

کوره تراکمی خلاء AC380V/50Hz با حداکثر 2000 کیلوگرم. وزن در حال بارگذاری

اندازه اتاقک: سفارشی

نام محصول: کوره زینترینگ فشار گاز

بهترین قیمت رو بدست بیار

5-20um ماشین پوشش رسوب بخار شیمیایی با دمای پوشش 200-1050 °C

نوع پوشش: CVD

ضخامت پوشش: 5-20 میلی متر

بهترین قیمت رو بدست بیار

10 11 12 13 14 15 16 17

درخواست خود را به طور مستقیم به ما بفرستید

cooling water system تولید کننده آنلاین

کوره سینک HIP

کوره فشار گاز

کوره مخزن خلاء

کوره مخزن MIM

کوره سنگ زنی فلزی

کوره صنعتی وکیوم

کوره وکیوم با دمای بالا

کوره عملیات حرارتی وکیوم

کوره پخت و پز سرامیک

کوره خلاء بالا

Sintering Furnace Accessoriesfunction gtElInit() {var lib = new google.translate.TranslateService();

کوره سیلیکون کاربید

دستگاه پوشش CVD

حالت کنترل دمای کوره پخت و پز حرفه ای سرامیک 3 منطقه حداکثر بار 1800 کیلوگرم

خودکار هوشمند IPC Sinter HIP Furnace PLC کنترل سفارشی

کوره صنعتی و بادوام با دوام با حالت اندازه گیری دمای ترموکوپل WRe5-26

کوره عملیات حرارتی با خلاء راندمان بالا ، فرایند فشار قابل اعتماد ایزوستاتیک داغ

زینترینگ خلاء کنترل دقیق دما با ترموکوپل کامپوزیت کربنی مقاوم در برابر درجه حرارت بالا نوع K

کوره خلاac با دمای بالا کنترل 320KVA زیمنس PLC

کوره پخت خلاac با درجه حرارت بالا با عملکرد تخریب هوا

کوره پوشش MT-CVD HT-CVD با کیفیت پوشش عالی و راکتور سفارشی

کوره آلومینیزاسیون بخار شیمیایی 900-1050C با Hf Zr و Si Codeposition

کوره CVD با پوشش TiC/TiN/TiCN/Al2O3 با دمای فرآیند 700-1050C

کوره خلاء آزمایشگاهی سفارشی Cvd کوره پوشش Cvd تپ شدن بخار شیمیایی

کوره پیشرفته CVD/CVI برای چسباندن بخار TiC TiN TiCN a-AL2O3 و K-AI2O3 در دمای فرآیند 700-1050C

کوره پوشش رسوب بخار شیمیایی با پیشگامان TiCL4،AICL3 و گاز های فرآیند

فابریکهای چینی گواهینامه ایزو سی ای کوره بدون فشار خلاء با حداکثر دمای کار 2500 درجه سانتیگراد

1500C CVD SIC کوره رشد epitaxy برای رشد کربید سیلیکون در 1000 * 1000 * 1500mm فضای موثر

فرنه سینتر کردن کاربید سیلیکون 1800C با دقت ≤±5C

تولید کننده کوره سینتر کردن فشار گاز با کنترل درجه حرارت بالا برای کربید/نیترید سیلیکون

کوره کاربید سیلیکون اتوماسیون بالا ، کوره صنعتی خلاء قدرت گرمایش 320 KVA

کوره تراکمی خلاء AC380V/50Hz با حداکثر 2000 کیلوگرم. وزن در حال بارگذاری

5-20um ماشین پوشش رسوب بخار شیمیایی با دمای پوشش 200-1050 °C